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四川桌面光刻机性能来电垂询「顶旭」

来源:顶旭 更新时间:2025-01-11 14:44:32

以下是四川桌面光刻机性能来电垂询「顶旭」的详细介绍内容:

四川桌面光刻机性能来电垂询「顶旭」 [顶旭)]"内容:SU8光刻机如何定制桌面光刻机作用

SU8模具加工平台旨在为SU8模具加工提供一个gao效、全mian的解决方案,该平台集成了桌面光刻机、匀胶机和热板等he心设备。桌面光刻机,体积小巧,采用LED光源,曝光分辨率可达2um,曝光均匀性大于90%,可实现微纳结构的精细制备;匀胶机,转速稳定性为±0.5%,转速达10000转,可确保光刻胶均匀涂敷,提高一致性;热板,温度稳定性±1%,可为SU8模具提供充分的烘烤,从而提升SU8模具结构的耐久性和机械性能。相比传统加工平台,设备体积庞大,环境要求严苛,SU8模具加工平台适应性强,光刻机占地面积小,普通实验室也可轻松部署。SU8模具加工平台,有利于客户快速实现芯片制备,为微流控技术的推广和应用提供便捷途径。

前烘

1)将涂布好SU8光刻胶的硅片放置在热板上,进行预热烘烤,去除光刻胶中的挥发性有ji溶剂,时间和温度根据光刻胶厚度进行调整。(举例说明:目标胶厚度50um ,设置温度65℃,烘烤15min,然后温度95度,烘烤15分钟)

曝光

1)将预热后的硅片放置在桌面光刻机托盘上。

2)使用相应的掩模(掩膜)放置在硅片上进行曝光,曝光时间和强度根据SU-8光刻胶的类型和厚度进行调整。(举例说明:目标胶厚度50um,设置曝光能量25mw/cm2,时间12s)

后烘

将曝光后的硅片放置在热板上,进行后曝光烘烤,以确保光刻胶的交联反应完成。(举例说明:目标胶厚度50um,设置温度65℃,烘烤7min,然后温度95℃,烘烤3min)

六、显影

将硅片放入显影剂中,使未曝光部分的光刻胶溶解,形成模具的图案。(显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整,此处显影时间20min)

清洗

将显影后的硅片用异bing醇溶剂进行清洗,去除多余的光刻胶。

检查

使用显微镜检查制备的SU-8模具,测试观察制备的微结构尺寸,确认图案的清晰度和质量。

SU8光刻机如何定制

SU8光刻机定制流程如下:1.明确需求,根据实际生产需要确定机型、精度等级和功能等。2.提供物料清单,用于确认可加工的金属和非金属材料种类。3.将图纸文件发送给厂家进行报价评审。4.根据终确定的方案签订合同并支付预付款,开始机器组装与调试。5.项目完成且通过验收后付清尾款并将设备发运至地点。6.在等待机床安装完毕并进行试产期间,可以安排工程师对客户提供的技术支持和服务人员进行现场培训。7.在量产阶段提供SMT及各组立配件供客户选择使用(如刀具、导轨磨损件等)。此外,也可以按照要求设计包装运输方式和物流方式以确保安全抵达目的地。以上内容仅供参考具体过程可能因实际情况而有所不同,建议咨询人士后再执行操作!

桌面光刻机作用

桌面光刻机的作用主要是将芯片制造过程中的微小部分通过照相方法制作出来。使用这种方法,可以在方寸大小的面积内集成多达数千个微型元件的功能性电路,广泛应用于、等高科技领域以及消费电子产品中。这种设备对于普通消费者而言并不实用,但可以为那些需要精密加工和电子设计的工程师提供一定的帮助和学习价值。总的来说,它在提高技术知识和技能方面具有一定的意义。

以上信息由专业从事桌面光刻机性能的顶旭于2025/1/11 14:44:32发布

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主营:微流控芯片定制,微流控芯片加工设备,微流控仪器,表面修饰

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