SU8光刻机设计信息推荐「多图」

SU8光刻机设计信息推荐「多图」 [顶旭)]"内容：

桌面光刻机

曝光光源：紫外LED光源波长：365nm;曝光面积：4英寸、6英寸可选；曝光方式：单面接触式定时曝光；曝光分辨率：2um；曝光强度：20~200mW/cm2可调；曝光不均匀性：≤5%；光源平行性：≤2°；光源寿命：≥20000h；电源输入：AC220V±10V，50HZ功率：250W重量：25kg外形尺寸：382（长）*371（宽）*435（高）工作环境：温度0℃-40 ℃，相对湿度＜80 %

热板

温度：0~300℃温度稳定性：±1℃功率：850W台面大小：200x200mm

公司团队拥有丰富的经验和技术积累，持续将专ye知识与创新思维相结合，为客户提供高品pin质的解决方案。我们将始终坚持以客户为中心，不断挑战自我，不断追求卓yue，通过专ye、创新和合作，为客户创造更大的价值，共同kai创微流控领域的美好未来。

显微镜

观察头：铰链式三目观察头，30°倾斜，瞳距48～75mm目镜：超大视野目镜 10X/22无xian远平场消色差物镜：4X/0.1，10X/0.25，20X/0.4，40X/0.65转化器：四孔转换器载物台：载物台面积300×268mm，移动范围250×250mm焦距调节：同轴粗微动调焦机构，行程24mm照明系统：6V20W卤素灯，亮度可调滤色镜蓝色、黄色、绿色、磨砂玻璃片

微流控芯片加工设备：提供丰富多样的微流控芯片加工设备，涵盖SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作，从而提高实验效率和灵活性。

光刻胶SU-8是一种常用的负性光刻胶，通常由环氧树脂和光敏剂组成，它具有许多优点，使其在制备微结构和器件方面成为理想的选择：

高分辨率：SU-8光刻胶具有出色的分辨率，可以制备细致的微结构，适合制作小尺寸线条和微细图案。

粘附性强：SU-8光刻胶在许多基片表面具有良好的粘附性，可以在不同材料上制备微结构。

厚度可调：SU-8光刻胶可以通过多次涂覆和光刻来控制厚度，适用于制备不同厚度的微结构。

化学稳定性：SU-8光刻胶具有较高的化学稳定性，可以耐受许多溶剂和化学物质，适用于各种应用环境。

热稳定性：SU-8光刻胶在高温下具有较好的稳定性，适用于需要高温处理的制备过程。

多层光刻：SU-8光刻胶可用于多层光刻制备，能够实现更复杂的微结构和器件。

应用广泛：SU-8光刻胶在微流体器件、生物芯片、MEMS、光学器件等多个领域中得到广泛应用。